379
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牌号 | 379 | 铪含量≥ | 959% |
产地 | 786 | 分量 | 205kg/块 |
杂质含量 | 207% |
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业,为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材商场概略:
日本。就美国而言.约有50家中小规模的溅射靶材制造商及销售商,其间比较大的公司员工大约有几百人。不过为了能更挨近使用者,以便供给更完善的售后服务,全球首要溅射靶材制造商一般会在客户所 在地建立分公司。近段时刻 ,亚洲的一些国家和地区,如**.韩国和新加坡,就建立了越来越多制造薄膜元件或产品的工厂,如 IC、液晶显现器及光碟制造厂。
石久高研专心15年供给高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
高纯铪靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业,为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
铪,金属Hf,原子序数72,原子量178.49,熔点高,与锆共存。是一种带光泽的银灰色的过渡金属。有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃),其改变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。具有塑性的金属,当有杂质存在时质变硬而脆。空气中安稳,灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点着。性质似锆。不好水、稀酸或强碱效果,但易溶解在**中。在化合物中首要呈+4价。铪合金(Ta4HfC5)是已知熔点很高的物质(约4215℃)。金属铪有较高的中子吸收截面,可用作反应堆的操控材料。是抱负的防中子辐射材料,在军事上反应堆中用作发动和封闭反应堆作业的操控棒。铪是重要的合金元素,用于制造硬质合金**、高功能飞机和空间动力系统的高温合金,铪也用于真空技术中。铪无独自矿藏,仅仅锆出产过程中的副产品,出产锆的工艺均适用于铪。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业,为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材要求:
纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的功能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来跟着微电子工业的迅速发展,硅器材布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要非常严厉,其纯度有必要大于4N。此外显现平面用的ITO靶材对纯度也要求非常严厉,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质是堆积薄膜的首要污染源,如:碱金属离子(Na+、K+)易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,下降元器材功能,其含量须在0.01ppm(分量)以下。
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