靶材,石久高研(图),单晶硅靶材

溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业，为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      磁控溅射靶材原理：

      磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其间直流溅射设备原理简略，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的运用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，一起还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率进步后就成为微波等离子体溅射，现在，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

石久高研专心15年供给高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业，为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材运用指南及注意事项

靶材清洁

靶材清洁的意图是去除靶材表面或许存在的尘埃或尘垢。

金属靶材能够经过四步清洁，

第1步用在酒精中浸泡过的无绒软布清洁；

第2步与第1步相似用酒精清洁；

第3步用去离子水清洗。在用去离子水清洗往后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。  氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。

第4步在铲除完有尘垢的区域后，再用高压低水气的氩气冲刷靶材， 以除掉一切或许在溅射体系中会形成起弧的杂质微粒.

靶材装置  

靶材装置进程中最重要的注意事项是一定要保证在靶材和溅射枪冷却壁之间树立很好的导热衔接。假如用冷却壁的翘曲程度严峻或背板翘曲严峻会形成靶材装置时发作开裂或曲折，背靶到靶材的导热功能就会遭到很大的影响，导致在溅射进程中热量无法发出最终会形成靶材开裂或脱靶 为保证满足的导热性，能够在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意一定要仔细查看和清晰所运用溅射枪冷却壁的平整度，一起保证O型密封圈一直在方位上。

石久高研专心15年供给高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业，为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材运用指南及注意事项

靶材预溅射  

靶材预溅射主张选用纯氩气进行溅射，能够起到清洁靶材表面的效果。靶材进行预溅射时主张渐渐加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率主张为1.5W小时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度能够比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为1.5W小时/平方厘米。  

在进行预溅射的一起需求查看靶材起弧情况，预溅射时刻一般为10分钟左右。如没有起弧现象，持续提高溅射功率到设定功率。依据经历，金属靶材可接受的溅射功率为25watts/平方厘米，陶瓷靶材为10watts/平方厘米。请一起参阅用户体系操作手册中关于溅射时真空腔体压力的设定依据经历，一般应保证冷却水出水口的水温应低于35摄氏度，但最重要的是保证冷却水的循环体系能有用作业，经过冷却水的快速循环带走热量，是保证能以较高功率接连溅射的一项重要保障。关于金属靶材一般主张冷却水流量为20LPM水压在5GMP左右；关于陶瓷靶材一般主张水流量在30LPM水压在9GMP左右。

石久高研专心15年供给高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~