稀土靶材
对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。
以pld为例,因素主要有:
靶材与基片的晶格匹配程度
镀膜氛围(低压气体氛围)
基片温度
激光器功率
脉冲频率
溅射时间
对于不同的溅射材料和基片,佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。
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什么是靶材
简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜...铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
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在作为高技术制高点的芯片产业中,溅射靶材是超大规模集成电路制造的必需原材料。智通财经APP了解到,超大规模集成电路即在一块芯片上集成的元件数超过10万个,或门电路数超过万门的集成电路,利用该技术可以将一个电子分系统乃至整个电子系统“集成”在一块芯片上,完成信息采集、处理、存储等多种功能。
而超大规模集成电路制造过程中要反复用到的是,隶属于物相沉积(PVD)技术的溅射工艺,它也是制备电子薄膜材料的主要技术之一。
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中国利用庞大的消费需求,利于下游产业转移至本土,从而提升国内溅射靶材增速。智通财经APP了解到,近年来溅射靶材产业链下游工业面临着不同程度的成本压力,半导体产业存在产业向市场转移的趋势,我国是世界大的集成电路手交易市场,销售额超过全球销售额的 50%,对产业转移具有较大的吸引力,因此国内靶材市场增速还将高于全球增速。
虽然目前靶材在港股还没有任何相关标的,但基于靶材下游应用的半导体、平板显示、太阳能电池等高热门行业,也不缺乏巨型企业,等到环境成熟之际通过上游并购等手段涉及靶材领域,因此溅射靶材依旧是有跟踪价值的。
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