865%
Nb1
上海
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铌含量≥ | 865% | 牌号 | Nb1 |
产地 | 上海 | 分量 | 796kg/块 |
杂质含量 | 647% |
靶材的首要功能要求
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业,为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的首要功能要求
纯度
纯度是靶材的首要功能指标之一,由于靶材的纯度对薄膜的功能影响很大。不过在实践使用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,跟着微电子职业的迅速发展,硅片尺度由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um乃至0.13um,曾经99.995%的靶材纯度能够满意0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%乃至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是堆积薄膜的首要污染源。不同用处的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了削减靶材固体中的气孔,进步溅射薄膜的功能,一般要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不只影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学功能。靶材密度越高,薄膜的功能越好。此外,进步靶材的密度和强度使靶材能更好地接受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的要害功能指标之一。
晶粒尺度及晶粒尺度散布
一般靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。关于同一种靶材,晶粒细微的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺度相差较小(散布均匀)的靶溅射堆积的薄膜的厚度散布更均匀。
石久高研专心15年供给高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
靶材贮存
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业,为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
高展金属靶材所供给的靶材包装在双层真空塑料袋中, 咱们主张用户将靶材无论是金属或陶瓷类保存在真空包装中, 尤其是金属靶材更需求保存在真空条件下,以防止帖合层氧化影响贴合质量。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研制和出产作业,为电子职业、玻璃工业、数据存储、装修镀膜、东西镀膜等职业的镀膜厂商供给高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材首要使用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子操控器材等;亦可使用于玻璃镀膜范畴;还能够使用于耐磨材料、高温耐蚀、装修用品等职业。
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